图书介绍
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![微电子器件基础](https://www.shukui.net/cover/36/34751988.jpg)
- 曾云编著 著
- 出版社: 长沙:湖南大学出版社
- ISBN:781053999X
- 出版时间:2005
- 标注页数:330页
- 文件大小:13MB
- 文件页数:347页
- 主题词:微电子技术-电子器件
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图书目录
第1章 PN结二极管1
第1节 PN结杂质浓度分布1
1 突变结1
2 缓变结2
第2节 平衡PN结4
1 空间电荷区4
2 能带图5
3 接触电势差8
4 载流子浓度8
第3节 PN结空间电荷区电场和电位分布10
1 突变结11
2 线性缓变结13
3 耗尽层近似讨论15
第4节 PN结势垒电容16
1 突变结势垒电容17
2 线性缓变结势垒电容18
第5节 PN结直流特性19
1 PN结非平衡载流子注入20
2 PN结反向抽取21
3 准费米能级和载流子浓度22
4 直流电流电压方程24
5 影响PN结直流特性的其他因素29
6 温度对PN结电流电压的影响37
1 小信号交流特性39
第6节 PN结小信号交流特性与开关特性39
2 开关特性44
第7节 PN结击穿特性47
1 基本击穿机构47
2 雪崩击穿电压49
3 影响雪崩击穿电压的因素55
习题一59
第2章 特殊二极管61
第1节 变容二极管61
1 PN结电容和变容二极管61
2 电容电压特性63
3 变容二极管基本特性66
4 特殊变容二极管71
第2节 隧道二极管73
1 隧道过程的定性分析73
2 隧道几率和隧道电流75
3 等效电路及特性78
4 反向二极管79
第3节 雪崩二极管79
1 崩越二极管工作原理80
2 崩越二极管的特性83
3 几种崩越二极管85
4 俘越二极管88
5 势越二极管92
习题二95
第3章 晶体管的直流特性96
第1节 晶体管基本结构与放大机理96
1 晶体管结构与杂质分布96
2 晶体管放大机理98
第2节 晶体管直流电流电压方程101
1 均匀基区晶体管101
2 缓变基区晶体管105
第3节 晶体管电流放大系数与特性曲线109
1 电流放大系数109
2 特性曲线112
3 电流放大系数理论分析115
4 影响电流放大系数的其他因素117
第4节 晶体管反向电流与击穿电压121
1 晶体管反向电流121
2 晶体管击穿电压123
第5节 晶体管基极电阻128
1 梳状晶体管基极电阻128
2 圆形晶体管基极电阻131
习题三133
第4章 晶体管频率特性与开关特性135
第1节 晶体管频率特性理论分析135
1 晶体管频率特性参数135
2 共基极电流放大系数与截止频率136
3 共射极电流放大系数与频率参数142
第2节 晶体管高频参数与等效电路146
1 交流小信号电流电压方程146
2 晶体管Y参数方程及其等效电路148
3 晶体管h参数方程及其等效电路151
4 晶体管高频功率增益和最高振荡频率153
第3节 晶体管的开关过程155
1 开关晶体管静态特性155
2 晶体管的开关过程156
3 晶体管的开关参数158
第4节 Ebers-Moll模型和电荷控制方程159
1 Ebers-Moll模型及等效电路159
2 电荷控制方程161
第5节 晶体管开关时间163
1 延迟时间163
2 上升时间164
3 存储时间166
4 下降时间170
习题四172
第5章 晶体管的功率特性174
第1节 基区电导调制效应174
1 注入对基区载流子分布的影响174
2 大注入对电流放大系数的影响178
3 大注入对基区渡越时间的影响180
4 大注入临界电流密度181
1 注入电流对集电结空间电荷区电场分布的影响182
第2节 有效基区扩展效应182
2 基区扩展184
第3节 发射极电流集边效应187
1 基区横向压降187
2 发射极有效条宽189
3 发射极单位周长电流容量190
4 发射极金属条长190
第4节 晶体管最大耗散功率191
1 耗散功率和最高结温191
2 晶体管的热阻193
3 晶体管最大耗散功率195
1 二次击穿现象196
第5节 晶体管二次击穿和安全工作区196
2 二次击穿的机理和防止二次击穿的措施197
3 晶体管的安全工作区(SOA)201
习题五202
第6章 晶闸管203
第1节 晶闸管基本结构与工作原理203
1 基本结构及静态分析203
2 工作原理205
3 电流电压特性208
第2节 晶闸管导通特性211
1 定性描述211
2 导通特性曲线的不同区域213
3 影响导通特性的其他因素215
1 反向阻断能力216
第3节 晶闸管阻断能力216
2 正向阻断能力217
3 表面对阻断能力的影响217
第4节 晶闸管关断特性218
1 载流子存储效应219
2 改善关断特性的措施220
第5节 双向晶闸管222
1 二极晶闸管222
2 控制极结构及触发223
习题六226
1 MOSFET的结构227
第7章 MOS场效应晶体管227
第1节 MOSFET的结构、分类和特性曲线227
2 MOSFET的类型229
3 MOSFEF的特性曲线232
第2节 MOSFET的阈值电压235
1 阈值电压的定义235
2 理想MOSFET阈值电压236
3 MOSFET阈值电压237
第3节 MOSFET电流电压特性238
1 线性工作区电流电压特性239
2 饱和工作区电流电压特性240
3 击穿区241
4 亚阈值区的电流电压关系242
第4节 MOSFET的二级效应243
1 迁移率变化效应244
2 衬底偏置效应244
3 体电荷变化效应246
第5节 MOSFET的频率特性247
1 增量参数248
2 小信号特性与等效电路251
3 截止频率252
第6节 MOSFET的功率特性254
1 MOSFET的极限参数254
2 功率MOSFET的结构256
2 温度对阈值电压的影响260
第7节 MOSFET的温度特性260
1 温度对载流子迁移率的影响260
3 温度对漏源电流的影响261
4 温度对跨导和漏导的影响262
第8节 MOSFET的小尺寸特性262
1 短沟道效应262
2 窄沟道效应266
3 等比例缩小规则268
习题七268
第8章 光电器件与电荷耦合器件270
第1节 光电效应270
1 半导体的光吸收270
2 半导体光电效应272
第2节 光电池275
1 基本结构和主要参数275
2 PN结光电池277
3 异质结光电池283
4 金属-半导体结光电池289
5 太阳能电池292
第3节 光敏晶体管294
1 光敏二极管294
2 光敏三极管302
3 光敏场效应管305
4 光控可控硅307
1 工作原理309
第4节 电荷耦合器件309
2 输入与输出313
3 基本特性315
4 CCD摄像器件319
习题八321
附录323
一、常用物理常数表323
二、锗、硅、砷化镓、二氧化硅的重要性质(300K)323
三、硅与几种金属的欧姆接触系数Rc324
四、锗、硅电阻率与杂质浓度的关系325
五、迁移率与杂质浓度的关系325
六、扩散结势垒宽度和结电容曲线326
参考文献327