图书介绍
大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 下PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 著
- 出版社：
- ISBN：
- 出版时间：1984
- 标注页数：63页
- 文件大小：1MB
- 文件页数：64页
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图书目录
综述1
国外集成电路专用设备的发展1
光学曝光的潜力与前景6
光刻设备10
分步重复投影光刻物镜设计10
微细光刻照明系统汞灯“弧闪”的初步研究16
光刻机光学系统的质量要求和象质检验22
投影光刻机自动调焦调平技术25
光刻设备的使用以及新设备的调机和工艺试验31
测试仪器36
掩模缺陷检测光学方法36
自动掩模检查系统中微细缺陷探测的光学问题40
双频激光测量系统在LSI光刻工艺设备中的应用45
采用负载观测器的定位控制系统51
其它54
静电在集成电路生产中的危害及消除54
文摘57
来信照登59
附：JK—1型接近式光刻机院级鉴定意见等60
建议书63