图书介绍
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- 《云南电子技术》编辑组编 著
- 出版社： 云南省电子工业研究所
- ISBN：
- 出版时间：1978
- 标注页数：65页
- 文件大小：10MB
- 文件页数：68页
- 主题词：
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图书目录
一、氧化铁膜生长规律及其物化特性&五机部二一一研究所1
二、用聚乙烯二茂铁制备半透明掩模&一四四四所制版组16
三、CVD氧化铁彩色掩模的制作&八七三厂十四车间21
四、超微粒干版制备的一些改进&八七三厂十四车间24
五、超微粒干版制作小结&国营四三二六厂六车间制版组25
六、聚乙烯二茂铁的制备&重庆东方红试剂厂净化车间茂铁小组27
七、明胶简介&重庆皮胶厂29
八、氧化铁版自动控制装置&国营八七九厂30
九、超微粒聚乙烯醇干版研制初步（摘录）&四川大学半导体专业35
十、PD光掩模的研制和应用&四川大学半导体专业 亚光电工厂五车间37
十一、减小溴化银颗粒度分散性的一个措施&重庆大学45
十二、国外电子束制版情况简介&中国科技情报研究所重庆分所46