图书介绍
光纤通信用光电子器件制作工艺基础PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 黄章勇编著 著
- 出版社： 北京：北京邮电大学出版社
- ISBN：7563509658
- 出版时间：2005
- 标注页数：306页
- 文件大小：21MB
- 文件页数：315页
- 主题词：光纤通信－光电器件；光纤通信－电子元件
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图书目录
目录1
第1章 器件与工艺技术物理基础1
1.1 能带概念1
1.2 本征半导体与态密度3
1.3 施主与受主4
1.4 杂质电离5
1.5 载流子的运动6
1.6 p-n结10
1.7 p-n结击穿20
1.8 异质结26
第2章 光电子器件的基本结构及其关键制作工艺38
2.1 激光二级管的基本结构和制作38
2.2 光电探测器的结构和制作47
2.3 半导体放大器的结构和制作50
2.4 光调制器的结构与制作51
2.5 半导体光开关的结构和制作57
2.6 集成光电子器件的结构和制作60
第3章 光电子器件的材料制备技术64
3.1 基底片制备64
3.2 光电子器件用Si基材料的制备70
3.3 光电子器件用Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料和外延生长82
3.4 Ⅲ-Ⅴ族化合物的液相外延生长87
3.5 Ⅲ-Ⅴ族化合物的卤化物输运汽相外延生长103
3.6 金属有机化合物汽相淀积108
3.7 分子束外延生长122
3.8 化学束外延生长130
3.9 原子层、分子层外延生长134
3.10 Ⅲ-Ⅴ族化合物低维半导体材料的制备技术135
3.11 光子晶体薄膜及其制备137
3.12 异质材料的晶片键合技术140
3.13 光电子器件外延层质量检测144
第4章 光电子器件制作中的光刻和腐蚀148
4.1 UV光刻148
4.2 电子束光刻158
4.3 X射线光刻168
4.4 纳米印刷光刻172
4.5 飞秒激光脉冲直接光刻174
4.6 光栅制作175
4.7 湿法化学腐蚀蚀刻图形179
4.8 干法腐蚀蚀刻图形185
第5章 光电子器件的掺杂技术197
5.1 扩散掺杂197
5.2 离子注入掺杂210
5.3 外延掺杂218
第6章 光电子器件中的介质薄膜及其制备220
6.1 光电子器件中的介质薄膜220
6.2 介质膜的制备227
第7章 光电子器件的电极金属膜及其制备240
7.1 光电子器件对电极金属膜的要求240
7.2 光电子器件的欧姆接触材料241
7.3 光电子器件的金属化淀积技术243
第8章 光电子器件和组件的组装和封装246
8.1 光电子器件的组装246
8.2 光电子组件的组装261
8.3 光电子器件和组件的封装268
第9章 光电子器件在制作和使用中引入缺陷及其缺陷控制和检测289
9.1 光电子器件在晶体生长中造成的缺陷及其控制和检测289
9.2 光电子器件制作过程中引入的缺陷294
9.3 光电子器件工作过程中引入的缺陷反应295
9.4 不合格器件的剔除296
附录 英文缩写词299
参考文献303