二氧化硅光学薄膜材料PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载

二氧化硅光学薄膜材料PDF格式电子书版下载

注意：本站所有压缩包均有解压码： 点击下载压缩包解压工具

第1章 二氧化硅材料基本特性1

1.1 二氧化硅体材料基本特性3

1.1.1 光学特性5

1.1.2 热力学及其他特性8

1.1.3 微结构和分子结构特性9

1.2 二氧化硅薄膜材料基本特性12

1.2.1 薄膜材料光学特性14

1.2.2 薄膜材料力学与热力学特性23

1.2.3 薄膜微结构和分子结构特性26

1.2.4 薄膜材料其他特性28

第2章 二氧化硅薄膜材料制备技术31

2.1 二氧化硅薄膜材料沉积技术31

2.1.1 真空基础33

2.1.2 热蒸发沉积技术35

2.1.3 离子束溅射沉积技术41

2.1.4 磁控溅射沉积技术42

2.1.5 热氧化技术44

2.2 基片特性及二氧化硅薄膜沉积参数44

2.2.1 基片特性44

2.2.2 二氧化硅沉积参数45

2.3 二氧化硅薄膜后处理技术47

2.3.1 热退火后处理48

2.3.2 热等静压后处理49

第3章 二氧化硅薄膜材料光学特性51

3.1 薄膜材料光学常数的测试与分析51

3.1.1 光学薄膜计算分析52

3.1.2 透反射光谱法56

3.1.3 椭圆偏振光谱反演法65

3.1.4 本书光谱和椭圆偏振参数的获得71

3.2 弱吸收和极薄层的测试和分析72

3.2.1 弱吸收的测试和分析72

3.2.2 极薄层光学常数测试与分析77

3.3 二氧化硅薄膜折射率特性79

3.3.1 IBS SiO2薄膜的折射率特性80

3.3.2 IBS SiO2薄膜折射率计算的对比82

3.3.3 IBS SiO2薄膜折射率的离散性85

3.3.4 不同制备技术的SiO2薄膜折射率差异86

3.3.5 全光谱的SiO2薄膜折射率比较88

3.4 二氧化硅薄膜吸收特性89

3.4.1 薄膜材料吸收的分类研究方法89

3.4.2 薄膜材料可见光弱吸收特性90

3.4.3 紫外区吸收和短波截止特性93

3.4.4 OH根吸收和激光损伤特性95

第4章 二氧化硅薄膜的后处理效应和时效98

4.1 热退火处理效应98

4.1.1 折射率和厚度的演变规律98

4.1.2 可见弱吸收特性的演变规律105

4.1.3 紫外区吸收和短波截止特性107

4.1.4 OH根吸收和激光损伤特性109

4.2 热等静压处理效应113

4.3 薄膜的时效特性114

4.3.1 IBS SiO2薄膜的时效特性115

4.3.2 不同沉积技术和参数的SiO2薄膜时效118

第5章 二氧化硅薄膜材料力学和热力学特性122

5.1 力学特性测试技术122

5.1.1 力学特性122

5.1.2 应力测试技术126

5.1.3 显微硬度测试技术129

5.2 二氧化硅薄膜应力特性130

5.2.1 应力特性130

5.2.2 二氧化硅薄膜应力时效特性136

5.2.3 应力与光学特性的关联性137

5.3 二氧化硅薄膜热力学特性138

第6章 二氧化硅薄膜材料短程有序微结构特性142

6.1 短程微结构和微结构分析技术142

6.1.1 短程微结构的振动特性142

6.1.2 红外光谱分析法145

6.1.3 介电常数分析法149

6.2 不同制备方法的二氧化硅薄膜短程微结构155

6.2.1 SiO2薄膜的介电常数155

6.2.2 SiO2薄膜的含羟基缺陷158

6.2.3 SiO2薄膜的微结构特性159

6.3 二氧化硅薄膜短程微结构热处理效应162

6.3.1 介电常数热处理效应162

6.3.2 微结构低频振动特性163

6.3.3 羟基结构振动特性164

6.3.4 非对称伸缩振动特性165

第7章 二氧化硅光学薄膜材料的应用168

7.1 高折射率材料的基本特性168

7.1.1 Ta2O5薄膜特性168

7.1.2 HfO2薄膜特性170

7.2 低损耗光学薄膜173

7.2.1 高反膜173

7.2.2 减反射膜178

7.2.3 激光陀螺放电等离子体特性184

7.2.4 等离子体对多层膜特性的影响187

7.3 滤光膜技术189

7.3.1 窄带滤光片190

7.3.2 截止滤光片197

参考文献202