图书介绍
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![数字集成电路技术交流资料选编](https://www.shukui.net/cover/28/31133349.jpg)
- 技术交流资料选编 著
- 出版社: 上海科学技术情报研究所
- ISBN:
- 出版时间:1976
- 标注页数:124页
- 文件大小:6MB
- 文件页数:128页
- 主题词:
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图书目录
目 录1
以路线斗争为纲提高电路可靠性的体会 苏州半导体器件一厂1
为提高电路合格率而努力 上海无线电十九厂6
对硅(100)晶面在集成电路中应用的探讨 八三三一厂13
浅饱和高速TTL电路及其在高低温下的适用性 北京无线电器件厂19
关于提高介质隔离数字集成电路参数稳定性问题 上海无线电七厂42
用MOS电容法测量SiO2中的离子沾污 复旦大学物理系44
表面钝化和C-V分析 上海冶金研究所54
数字电路高电源大功率直流老化筛选 八七八厂65
筛选数字集成电路的一种新方法——Vcc-Icc特性曲线筛选法 八七八厂77
集成电路可靠性试验总结……………………………………………………85
京字一一五部队、四○一所、北京半导体器件三厂、八七八厂85
集成电路底座酸性镀金(合金电镀) 上海无线电十九厂119