图书介绍

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半导体材料 第2版
  • 杨树人等编著 著
  • 出版社: 北京:科学出版社
  • ISBN:7030128176
  • 出版时间:2004
  • 标注页数:264页
  • 文件大小:11MB
  • 文件页数:272页
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图书目录

第1章 硅和锗的化学制备5

1-1硅和锗的物理化学性质5

1-2高纯硅的制备7

1-3锗的富集与提纯15

第2章 区熔提纯19

2-1分凝现象与分凝系数19

2-2区熔原理24

2-3锗的区熔提纯33

第3章 晶体生长35

3-1晶体生长理论基础35

3-2熔体的晶体生长54

3-3硅、锗单晶生长61

第4章 硅、锗晶体中的杂质和缺陷69

4-1硅、锗晶体中杂质的性质69

4-2硅、锗晶体的掺杂73

4-3硅、锗单晶的位错92

4-4硅单晶中的微缺陷98

第5章 硅外延生长102

5-1外延生长概述102

5-2硅的气相外延生长104

5-3硅外延层电阻率的控制116

5-4硅外延层的缺陷122

5-5硅的异质外延127

第6章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体133

6-1Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的特性134

6-2砷化镓单晶的生长方法140

6-3砷化镓单晶中杂质的控制147

6-4砷化镓单晶的完整性152

6-5其他Ⅲ-Ⅴ族化合物的制备155

第7章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的外延生长160

7-1气相外延生长(VPE)160

7-2金属有机物气相外延生长(MOVPE)164

7-3液相外延生长(LPE)173

7-4分子束外延生长(MBE)181

7-5化学束外延生长(CBE)186

7-6其他外延生长技术188

第8章 Ⅲ-Ⅴ族多元化合物半导体194

8-1异质结与晶格失配195

8-2GaAlAs外延生长196

8-3InGaaN外延生长201

8-4InGaAsP外延生长202

8-5超晶格与量子阱208

8-6应变超晶格217

8-7能带工程218

第9章 Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体222

9-1Ⅱ-Ⅵ族化合物单晶材料的制备222

9-2Ⅱ-Ⅵ族化合物的点缺陷与自补偿现象229

9-3Ⅱ-Ⅵ族多元化合物材料233

9-4Ⅱ-Ⅵ族超晶格材料238

第10章 氧化物半导体材料241

10-1氧化物半导体材料的制备241

10-2氧化物半导体材料的电学性质245

10-3氧化物半导体材料的应用248

第11章 其他半导体材料255

11-1窄带隙半导体255

11-2黄铜矿型半导体258

11-3纳米晶材料259

11-4非晶态半导体材料260

11-5有机半导体材料261

参考文献264

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